Bicon一体化基台冠: 两颗下颌磨牙的两阶段式种植技术中的暴露种植体、用一体化基台冠修复,并在种植体内径中旋转基台冠来关闭过宽的邻间隙

此病例展示两颗下颌磨牙的两阶段式种植技术中的暴露种植体、制作临时冠、戴入一体化基台冠,并在种植体内径中旋转基台冠来关闭过宽的邻间隙。

     


1. 术前手术区的情况。


2. 术前的X光片。


3. 从种植体内径中取出前的黑色愈合帽。


4. 取模后,在种植体上安放白色的愈合基台。


5. 在黑色金属背景下比色,并数码成像,以便于制作美观的一体化基台冠。


6. 石膏模型上的一体化基台冠。


7. 一体化基台冠的镜观。


8. 一体化基台冠的镜观。


9. 戴入最终修复体前,白色愈合基台的面观。


10. 植体内径和龈袖口。


11. 戴入一体化基台冠。


12. 组合导向杆、袖口绞刀和螺纹把手,插入种植体内径扩大龈袖口。


13. 戴入修复体前的种植体内径及龈袖口。


14. 戴入最终修复体。


15. 隔着透明丙烯酸定位模板轻敲,使基台与种植体之间达到锥形锁柱的连接关系。


16. 戴入一体化基台冠。


17. X光片显示过宽的邻间隙,只需将修复体在种植体内径旋转就可以使它们紧密接触。


18. 利用安装在曲柄上的白色愈合基台将一体化基台冠完全就位。


19. 重新定位的一体化基台冠的颊侧观。


20. X光片显示重新就位的一体化基台冠之间邻面接触区的空隙已经关闭。
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